🇷🇺🇷🇺🇷🇺
На предприятии «Лассард» изготовлены первые опытные образцы эксимерного лазера, который является ключевым для литографического процесса изготовления микроэлектроники с нормами проектирования вплоть до 65 нм. Лазер дает возможность модифицировать характеристики в сторону более тонкой топологии.
«Лассард» выступает как разработчик эксимерного лазера для литографа. Саму же литографическую установку разрабатывает Зеленоградский нанотехнологический центр. Срок ее поставки – 2026 год, но потенциальные заказчики уже есть. Прежде всего, это, конечно, «Микрон», который заинтересован в масштабировании своего производства и на 130 нм, и на 90 нм, и на 65 нм, где по последней топологии есть пока только опытное производство и есть потребность перевести его в серийное.
В следующем году лазеры разработанные «Лассард» будут поставлены в Зеленоградский нанотехнологический центр для испытаний совместно с литографом на 130 нм. После 2026 года эти лазеры пойдут в серийное производство — будет производиться не менее 5 шт. в год.
Пять литографических установок в год — это уже хороший результат, поскольку они позволят запустить и масштабировать уже существующие в России производства и наладить промышленный выпуск отечественной микроэлектроники, в частности, таких чипов как MIK32 «Амур», использующие систему команд RISC-V.
Присоединяйтесь к ОК, чтобы подписаться на группу и комментировать публикации.
Нет комментариев